Δεξιότητες έκθεσης σε PCB και βασικές γνώσεις

Τα κυκλώματα εκτύπωσης, επίσης γνωστά ως κυκλώματα εκτύπωσης, είναι προμηθευτές ηλεκτρικών συνδέσεων για ηλεκτρονικά εξαρτήματα.Ο σχεδιασμός του είναι κυρίως σχεδιασμός διάταξηςΤο κύριο πλεονέκτημα της χρήσης πλακών κυκλωμάτων είναι η σημαντική μείωση των σφαλμάτων καλωδίωσης και συναρμολόγησης, η βελτίωση του επιπέδου αυτοματοποίησης και του ποσοστού εργασίας παραγωγής.Το κύκλωμα μακροσύνδεσης Xiaobian σας παίρνει να κατανοήσετε τις δεξιότητες έκθεσης της πλακέτας κυκλώματος και τις βασικές γνώσεις.

Το πρώτο είναι η έκθεση.

Όταν οι κατασκευαστές PCB επεξεργάζονται την πλακέτα, κάτω από υπεριώδες φως, ο φωτοεκκινητής απορροφά την ενέργεια του φωτός και αποσυντίθεται σε ελεύθερες ομάδες,που στη συνέχεια ενεργοποιούν την φωτοπολυμερή μονομερή για την αντιδραστική αλληλεπίδραση πολυμερισμούΗ έκθεση πραγματοποιείται γενικά στο αυτόματο μηχανισμό διπλής όψης έκθεσης,και τώρα η μηχανή έκθεσης μπορεί να χωριστεί σε ψύξη αέρα και ψύξη νερού σύμφωνα με τις διαφορετικές μεθόδους ψύξης της πηγής φωτός.

Παράγοντες που επηρεάζουν την ποιότητα της απεικόνισης έκθεσης

Εκτός από τις επιδόσεις της φωτοαντίστασης ξηρού φιλμ, την επιλογή της φωτεινής πηγής, τον έλεγχο του χρόνου έκθεσης (ποσότητα έκθεσης),και η ποιότητα του φωτογραφικού υποστρώματος είναι όλοι σημαντικοί παράγοντες που επηρεάζουν την ποιότητα της απεικόνισης έκθεσης.

1) Επιλογή της φωτεινής πηγής

Κάθε είδος ξηρού φιλμ έχει τη δική του μοναδική φασματική καμπύλη απορρόφησης, και κάθε είδος φωτεινής πηγής έχει τη δική του φασματική καμπύλη εκπομπής.Εάν η κύρια κορυφή φασματικής απορρόφησης ενός συγκεκριμένου ξηρού φιλμ μπορεί να επικαλύπτεται ή να επικαλύπτεται κυρίως με την κύρια κορυφή φασματικής εκπομπής μιας συγκεκριμένης φωτεινής πηγής, τα δύο ταιριάζουν καλά και η επίδραση έκθεσης είναι καλή.

Η φασματική καμπύλη απορρόφησης ξηρού υλικού δείχνει ότι το φάσμα της φασματικής απορρόφησης είναι 310-440nm (nm).μπορεί να δει ότι η λάμπα επιλογή, οι λαμπτήρες υδραργύρου υψηλής πίεσης και οι λαμπτήρες ιωδαλίου έχουν μεγάλη σχετική ένταση ακτινοβολίας στο εύρος μήκους κύματος 310-440nm, η οποία είναι μια ιδανική πηγή φωτός για έκθεση σε ξηρό φιλμ.Οι λαμπτήρες ξενόνου δεν είναι κατάλληλοι για έκθεση σε ξηρό φιλμ..

Μετά την επιλογή του τύπου της φωτεινής πηγής, πρέπει επίσης να εξεταστεί μια φωτεινή πηγή με υψηλή ισχύ.ο βαθμός θερμικής παραμόρφωσης της φωτογραφικής πλάκας είναι μικρόςΕπιπλέον, ο σχεδιασμός της λάμπας είναι επίσης πολύ σημαντικός, για να προσπαθήσουμε να κάνουμε την ομοιομορφία του φωτός που εισέρχεται είναι καλή, υψηλό παράλληλο, προκειμένου να αποφευχθεί ή να μειωθεί η κακή επίδραση μετά την έκθεση.

2) Ελέγχος του χρόνου έκθεσης (ποσότητα έκθεσης)

Κατά τη διαδικασία έκθεσης, η αντίδραση φωτοπολυμερισμού του ξηρού φιλμ δεν είναι "ένας πρώτος προετοιμασμός" ή "μία έκθεση είναι έτοιμη", αλλά γενικά μέσω τριών σταδίων.

Λόγω της παρουσίας οξυγόνου ή άλλων επιβλαβών ακαθαρσιών στο ξηρό φιλμ, πρέπει να υποβληθεί σε διαδικασία επαγωγής,στην οποία η ελεύθερη ομάδα που παράγεται από τη διάσπαση του αρχιστή καταναλώνεται από οξυγόνο και προσμείξειςΩστόσο, όταν περνάει η περίοδος επαγωγής, η αντίδραση φωτοπολυμερισμού του μονομερή λαμβάνει χώρα γρήγορα,και η ιξώδες του φιλμ αυξάνεται γρήγορα, κοντά στο βαθμό μετάλλαξης, το οποίο είναι το στάδιο της ταχείας κατανάλωσης του φωτοευαίσθητου μονομερίου, και το ποσοστό του χρόνου στη διαδικασία έκθεσης αυτού του σταδίου είναι πολύ μικρό.Όταν καταναλώνεται το μεγαλύτερο μέρος του φωτοευαίσθητου μονομερίου, εισέρχεται στη ζώνη εξάντλησης μονομερών, και αυτή τη φορά η αντίδραση πολυμερισμού έχει ολοκληρωθεί.

Ο σωστός έλεγχος του χρόνου έκθεσης είναι ένας πολύ σημαντικός παράγοντας για την απόκτηση εξαιρετικής εικόνας ξηρής ταινίας.κατά τη διαδικασία ανάπτυξηςΚατά την προεπεξεργασία ή την ηλεκτροπληγήση, το φιλμ στρεβλώνεται, διαπερνά και ακόμη και πέφτει..Όταν η έκθεση είναι υπερβολική, θα προκαλέσει δυσκολίες στην ανάπτυξη, εύθραυστη ταινία, αφήνοντας υπολειμματική κόλλα και άλλα προβλήματα.Αυτό που είναι πιο σοβαρό είναι ότι η λανθασμένη έκθεση θα προκαλέσει μια απόκλιση του πλάτους της γραμμής της εικόνας, η υπερβολική έκθεση θα καταστήσει την γραμμή γραφικής επικάλυψης λεπτότερη, θα καταστήσει την γραμμή τυπωμένης χαρακτικής παχύτερη, αντιθέτως, η χαμηλή έκθεση θα καταστήσει την γραμμή γραφικής επικάλυψης παχύτερη,να κάνει την τυπωμένη γραμμή χαλαρώματος λεπτότερη.

Πώς να προσδιορίσετε τον σωστό χρόνο έκθεσης;

Λόγω των διαφορετικών μηχανών έκθεσης που χρησιμοποιούνται από διάφορους κατασκευαστές ταινιών, δηλαδή η πηγή φωτός, η ισχύς του λαμπτήρα και η απόσταση του λαμπτήρα είναι διαφορετικές,είναι δύσκολο για τους κατασκευαστές ξηρών ταινιών να συστήσουν σταθερό χρόνο έκθεσηςΟι ξένες εταιρείες που παράγουν ξηρό φιλμ έχουν τη δική τους ή συνιστώμενη χρήση κάποιου είδους οπτικού κανόνα πυκνότητας, το εργοστάσιο ξηρού φιλμ σημειώνεται με το συνιστώμενο επίπεδο απεικόνισης,Οι κατασκευαστές ξηρών ταινιών της Κίνας δεν έχουν δικό τους οπτικό κανόνα πυκνότηταςΣυνήθως συνιστάται η χρήση ενός ελεγκτή οπτικής πυκνότητας Iston 17 ή Stouffer 21.

Η οπτική πυκνότητα της κλίμακας οπτικής πυκνότητας Rayston 17 είναι 0.5, και η διαφορά οπτικής πυκνότητας AD αυξάνεται κατά 0,05 για κάθε επόμενο στάδιο, μέχρις ότου η οπτική πυκνότητα του επιπέδου 17 είναι 1.30Η οπτική πυκνότητα της κλίμακας οπτικής πυκνότητας Stuffer 2l είναι 0.05, και στη συνέχεια κάθε στάδιο αυξάνεται με τη διαφορά οπτικής πυκνότητας Δ Δ κατά 0,15 στην οπτική πυκνότητα του επιπέδου 2l είναι 3.05Όταν η οπτική κλίμακα πυκνότητας εκτίθεται, η πυκνότητα του φωτός είναι μικρότερη (δηλαδή πιο διαφανής), το ξηρό φιλμ δέχεται περισσότερη ενέργεια υπεριώδους φωτός και η πολυμερίωση είναι πιο πλήρης.και η πυκνότητα φωτός είναι μεγάλη (δηλαδή, ο βαθμός διαφάνειας είναι κακός), η ξηρή ταινία δέχεται λιγότερη ενέργεια υπεριώδους φωτεινής ακτινοβολίας και η πολυμερισμός δεν συμβαίνει ή η πολυμερισμός είναι ελλιπής,και εμφανίζεται ή αφήνεται μόνο ένα μέρος του κατά την ανάπτυξηΜε αυτόν τον τρόπο, μπορούν να χρησιμοποιηθούν διαφορετικοί χρόνοι έκθεσης για να ληφθούν διαφορετικά επίπεδα απεικόνισης.

Η χρήση του οπτικού κανόνα πυκνότητας Ruston 17 περιγράφεται ως εξής:

α. Όταν γίνεται έκθεση, η ταινία είναι προς τα κάτω·

β. Τοποθετήστε το φιλμ στην πλάκα χαλκού για 15 λεπτά και στη συνέχεια εκθέστε το.

Οποιοσδήποτε χρόνος έκθεσης επιλέγεται ως χρόνος έκθεσης αναφοράς, εκφρασμένος με Tn, και η σειρά που απομένει μετά την εξέλιξη ονομάζεται σειρά αναφοράς..Η συνιστώμενη σειρά χρήσης συγκρίνεται με τη σειρά αναφοράς και υπολογίζεται σύμφωνα με τον πίνακα συντελεστών της [ευαίσθητη λέξη].

Διαφορά σειράς

Συντελεστής K

Διαφορά σειράς

Συντελεστής K

Ένα

1.122

6

2.000

2

1.259

7

2.239

3

1.413

8

2.512

4

1.585

9

2.818

5

1.778

10

3.162

Όταν η σειρά χρήσης πρέπει να αυξηθεί σε σύγκριση με τη σειρά αναφοράς, ο χρόνος έκθεσης της σειράς χρήσης T = KTR. Όταν η σειρά χρήσης πρέπει να μειωθεί σε σύγκριση με τη σειρά αναφοράς,ο χρόνος έκθεσης της σειράς χρήσης T = TR/KΜε αυτόν τον τρόπο, ο χρόνος έκθεσης μπορεί να καθοριστεί με μία μόνο δοκιμή.

Σε περίπτωση που δεν υπάρχει κλίμακα πυκνότητας φωτός, μπορεί επίσης να παρατηρηθεί από την εμπειρία, χρησιμοποιώντας τη μέθοδο της σταδιακής αύξησης του χρόνου έκθεσης, ανάλογα με τη φωτεινότητα του ξηρού φιλμ μετά την ανάπτυξη,αν η εικόνα είναι καθαρή, εάν το πλάτος της γραμμής της εικόνας είναι σύμφωνο με το αρχικό αρνητικό για τον προσδιορισμό του κατάλληλου χρόνου έκθεσης.επειδή η ένταση της φωτεινής πηγής συχνά αλλάζει με τις διακυμάνσεις της εξωτερικής τάσης και την γήρανση του λαμπτήραΗ φωτεινή ενέργεια ορίζεται από τον τύπο E = IT, όπου το E αντιπροσωπεύει τη συνολική έκθεση, σε milijoules ανά τετραγωνικό εκατοστόμετρο.Αντιπροσωπεύω την ένταση του φωτός σε miliwatts ανά τετραγωνικό εκατοστό.Όπως φαίνεται από τον παραπάνω τύπο, η συνολική έκθεση Ε ποικίλλει με τη φωτεινή ένταση I και τον χρόνο έκθεσης T. Όταν ο χρόνος έκθεσης T είναι σταθερός, η συνολική έκθεση E ποικίλλει με την ένταση του φωτός I και τον χρόνο έκθεσης T.η ένταση του φωτός I αλλάζει, και το συνολικό ποσό έκθεσης αλλάζει επίσης, έτσι ώστε αν και ο χρόνος έκθεσης ελέγχεται αυστηρά, το συνολικό ποσό έκθεσης που αποδέχεται η ξηρή ταινία σε κάθε έκθεση δεν είναι απαραίτητα το ίδιο,και ο βαθμός πολυμερισμού είναι διαφορετικόςΓια να γίνει κάθε έκθεση με την ίδια ενέργεια, χρησιμοποιείται ένας ενσωματωτής φωτεινής ενέργειας για τη μέτρηση της έκθεσης.ο χρόνος έκθεσης T μπορεί να ρυθμίζεται αυτόματα ώστε να διατηρείται αμετάβλητη η συνολική έκθεση Ε.

3) Η ποιότητα του φωτογραφικού υποστρώματος

Η ποιότητα του φωτογραφικού υποστρώματος εκδηλώνεται κυρίως σε δύο πτυχές: οπτική πυκνότητα και σταθερότητα διαστάσεων.

Για την οπτική πυκνότητα, η οπτική πυκνότητα Dmax είναι μεγαλύτερη από 4 και η ελάχιστη οπτική πυκνότητα Dmin είναι μικρότερη από 0.2Η οπτική πυκνότητα αναφέρεται στο κατώτερο όριο της επιφανειακής φωτεινής ταινίας αποκλεισμού στο αριστερό υπεριώδες φως της πλάκας βάσης, δηλαδήόταν η οπτική πυκνότητα αποκλεισμού της αδιαφανούς περιοχής της πλάκας βάσης υπερβαίνει το 4Η ελάχιστη οπτική πυκνότητα αναφέρεται στο ανώτατο όριο του φωτεινού αποκλεισμού που παρουσιάζεται από το διαφανές φιλμ έξω από την πλάκα πίσω στο υπεριώδες φως,Αυτό είναι..., όταν η οπτική πυκνότητα Dmin της διαφανούς περιοχής της πλακέτας πίσω είναι μικρότερη από 0.2Η διαμετρική σταθερότητα του φωτογραφικού υποστρώματος (που αναφέρεται στις αλλαγές της θερμοκρασίας,η υγρασία και ο χρόνος αποθήκευσης) θα επηρεάσει άμεσα την ακρίβεια των διαστάσεων και την επικάλυψη εικόνας της εκτυπωμένης πλακέτας, και η σοβαρή επέκταση ή μείωση του μεγέθους του φωτογραφικού υποστρώματος θα προκαλέσει την απόκλιση της εικόνας του φωτογραφικού υποστρώματος από την τρύπα της εκτυπωμένης πλακέτας.Η αρχική εγχώρια σκληρή SO ταινία επηρεάζεται από τη θερμοκρασία και την υγρασία, το μέγεθος μεταβάλλεται σημαντικά, ο συντελεστής θερμοκρασίας και ο συντελεστής υγρασίας είναι περίπου (50-60) × 10-6 / °C και (50-60) × 10-6 / %, για μήκος περίπου 400 mm S0 βασική έκδοση,Η αλλαγή του μεγέθους το χειμώνα και το καλοκαίρι μπορεί να φτάσει το 0.5-1mm, Η απόσταση από μισή τρύπα σε μια τρύπα μπορεί να παραστρατεύεται κατά την απεικόνιση σε μια εκτυπωμένη πλακέτα.η χρήση και η αποθήκευση των φωτογραφικών πλακών βρίσκονται σε περιβάλλον σταθερής θερμοκρασίας και υγρασίας.

Η χρήση πυκνών φύλλων αλατιού ασημιού με βάση το πολυεστέρα (π.χ. 0,18 mm) και φύλλων διαζό μπορεί να βελτιώσει τη διαμετρική σταθερότητα των φωτογραφικών υποστρωμάτων.το σύστημα κενού της μηχανής έκθεσης και η επιλογή υλικών κενού θα επηρεάσουν επίσης την ποιότητα της απεικόνισης έκθεσης.

Τοποθέτηση έκθεσης

1) Οπτική τοποθέτηση

Η οπτική τοποθέτηση είναι συνήθως κατάλληλη για τη χρήση διαζωνικών πλάκων, οι διαζωνικές πλάκες είναι καφέ ή πορτοκαλί διαφανείς. Ωστόσο, δεν είναι διαφανείς στο υπεριώδες φως, μέσω της εικόνας διαζωνίας,η συγκόλληση της κάτω πλάκας ευθυγραμμίζεται με την τρύπα της εκτυπωμένης πλακέτας, και η έκθεση μπορεί να σταθεροποιηθεί με ταινία.

2) Εκτός αποθέματος τοποθέτηση συστήματος τοποθέτησης

Το σύστημα τοποθέτησης εκτός αποθέματος περιλαμβάνει μια τρύπα φωτογραφικής ταινίας και μια διπλή στρογγυλή τρύπα.ευθυγραμμίστε τις μπροστινές και πίσω πλάκες του φιλμ του φαρμάκου κάτω από το μικροσκόπιο; Χρησιμοποιήστε μια τρύπα ταινίας για να τρυπήσετε δύο τρύπες θέσης έξω από την αποτελεσματική εικόνα της πλάκας βάσης.Πάρτε μια από την πλάκα της βάσης με τις τρύπες θέσης και να προγραμματίσει τη διαδικασία της γεώτρησης για να λάβει την ταινία δεδομένων με τις τρύπες του συστατικού και τις τρύπες θέσης τρυπήσει την ίδια στιγμήΜετά την τρυπή των τρυπών των κατασκευαστικών στοιχείων και των τρυπών τοποθέτησης ταυτόχρονα, οι τρυπές μεταλλίωσης της εκτυπωμένης πλακέτας και της προχάλκινης επικάλυψης,οι διπλές στρογγυλές τρύπες μπορούν να χρησιμοποιηθούν για την τοποθέτηση της έκθεσης.

3) Φτιάξτε τη θέση της καρφίτσας

Η σταθερή καρφίτσα χωρίζεται σε δύο σειρές συστημάτων, ένα σετ σταθερής φωτογραφικής πλάκας, το άλλο σετ σταθερής εκτυπωτικής πλακέτας, ρυθμίζοντας τη θέση των δύο καρφίτσων,για να επιτευχθεί η σύμπτωση και η ευθυγράμμιση της φωτογραφικής πλάκας και της εκτυπωτικής πλακέταςΜετά την έκθεση, η αντίδραση πολυμερισμού θα συνεχιστεί για ένα χρονικό διάστημα, προκειμένου να εξασφαλιστεί η σταθερότητα της διαδικασίας, μην αφαιρέσετε αμέσως το φιλμ πολυεστέρα μετά την έκθεση,ώστε η αντίδραση πολυμερισμού να συνεχίσει.. Αφαιρέστε το φιλμ πολυεστέρα πριν από την ανάπτυξη.